摘要：
证券之星消息，根据企查查数据显示万润股份(002643)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种通过建立QSAR模型预测液晶分子双折射率的方法”，专利申请号为CN202110801906.3,授权日为2024年6月21日。专利摘要：本发明涉及一种通过建立QSAR模型预测液晶分子双折射率的方法说完了。
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证券之星消息，根据企查查数据显示万润股份(002643)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种通过建立QSAR模型预测液晶分子双折射率的方法”，专利申请号为CN202110801906.3,授权日为2024年6月21日。专利摘要：本发明涉及一种通过建立QSAR模型预测液晶分子双折射率的方法说完了。
证券之星消息，根据企查查数据显示长飞光纤(601869)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种硅烷改性的低折射率光纤涂料”，专利申请号为CN202211645246.5,授权日为2024年6月11日。专利摘要：本发明提供了一种硅烷改性的低折射率光纤涂料，其各组分为：含氟低聚物、含氟活性单等会说。
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zheng quan zhi xing xiao xi ， gen ju qi zha zha shu ju xian shi chang fei guang xian ( 6 0 1 8 6 9 ) xin huo de yi xiang fa ming zhuan li shou quan ， zhuan li ming wei “ yi zhong gui wan gai xing de di zhe she lv guang xian tu liao ” ， zhuan li shen qing hao wei C N 2 0 2 2 1 1 6 4 5 2 4 6 . 5 , shou quan ri wei 2 0 2 4 nian 6 yue 1 1 ri 。 zhuan li zhai yao ： ben fa ming ti gong le yi zhong gui wan gai xing de di zhe she lv guang xian tu liao ， qi ge zu fen wei ： han fu di ju wu 、 han fu huo xing dan deng hui shuo 。
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全部产品线合计共有24款SKU,覆盖1.56、1.60、1.67、1.71四个折射率，有日常使用和防蓝光两个类别，在产品线丰富度方面明显领先于行业。公司在立足主营业务的同时积极关注眼视光行业前瞻性技术，坚持长期可持续健康发展和前瞻长远的战略部署，在瞬息万变的市场环境中快速把握神经网络。
金融界2024年2月2日消息，据国家知识产权局公告，吉林奥来德光电材料股份有限公司申请一项名为“一种低折射率覆盖层材料及其制备方法和应用“公开号CN117486868A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示，本发明提供了一种低折射率覆盖层材料，以取代的咔唑基‑恶唑衍生物并后面会介绍。
金融界2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，江苏双星彩塑新材料股份有限公司申请一项名为“一种高折射率光学薄膜及其制备方法“公开号CN117820701A,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本申请公开了一种高折射率光学薄膜及其制备方法，包括一层折射率为1.63‑1.65的等我继续说。
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金融界2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，江苏双星彩塑新材料股份有限公司申请一项名为“一种具有高折射率光学涂层的薄膜及其制备方法“公开号CN117820700A,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本申请公开了一种具有高折射率光学涂层的薄膜及其制备方法，所述薄膜等会说。
金融界2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，江苏双星彩塑新材料股份有限公司申请一项名为“一种高折射率光学涂料及其制备方法“公开号CN117820885A,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本申请公开了一种高折射率光学涂料，用于形成高折射率光学涂层，所述高折射率光好了吧！
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金融界2024年3月16日消息，据国家知识产权局公告，上海飞凯材料科技股份有限公司申请一项名为“高折射率增亮膜材料组合物及其应用“公开号CN117700610A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供高折射率增亮膜材料组合物及其应用，该高折射率增亮膜材料组合物包等会说。
金融界2024年3月8日消息，据国家知识产权局公告，武汉光迅科技股份有限公司申请一项名为“一种优化折射率的波导结构及其制作方法“公开号CN117666020A,申请日期为2022年8月。专利摘要显示，本发明涉及半导体芯片技术领域，提供了一种优化折射率的波导结构及其制作方法。其神经网络。
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金融界2024年2月26日消息，据国家知识产权局公告，浙江扬帆新材料股份有限公司申请一项名为“一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应用“公开号CN117590693A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明公开了一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应等会说。
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